Како ултразвучни спреј премаз може побољшати примену фоторезиста?

Увод

Фотоотпорни премаз је критичан процес у производњи полупроводника, микроелектроници, МЕМС, сензорима и другим прецизним индустријама. Квалитет и униформност слоја фоторезиста директно утичу на процесе накнадног излагања, развоја, гравирања и преноса шара.

Традиционални центрифугални премаз се широко користи за примену фотоотпорника, али може имати ограничења при обради не-планарних супстрата, тродимензионалних структура-, плочица са површинском топографијом или материјала код којих су униформност премаза и коришћење материјала важни.

Ултразвучна технологија наношења спрејапружа алтернативно решење. Коришћењем ултразвучне вибрације високе{1}}високе фреквенције за атомизацију течног фотоотпорника у фине и релативно уједначене капљице, систем ултразвучног распршивача може да генерише контролисан спреј за таложење танког-филма.

Основни процес је:

Фоторезист → Ултразвучна атомизација → Фине капљице → Контролисано прскање → Уједначени фоторезист филм

За разлику од конвенционалног пнеуматског прскања, ултразвучна атомизација се не ослања првенствено на ваздух под високим{0}}притиском да би течност разбила на капљице. Високе{2}}вибрације на површини млазнице стварају процес атомизације.

Добијени спреј се може контролисати преко параметара као што су ултразвучна фреквенција, брзина протока течности, растојање прскања, кретање млазнице и брзина подлоге.

Зашто користити ултразвучну атомизацију за фоторезист?

1. Равномерни танк{1}}премаз

Ултразвучна атомизација може да произведе фине капљице са релативно уском{0}}дистрибуцијом величине капљица. Када су параметри прскања правилно оптимизовани, капљице се могу равномерно таложити по површини подлоге.

Ово је посебно корисно за апликације које захтевају контролисану и уједначену дебљину фотоотпора.

2. Прецизно наношење материјала

Фоторезист може бити скуп материјал, тако да је важно смањити непотребну потрошњу материјала.

Ултразвучни премаз за распршивање омогућава прецизно контролисање протока течности. У поређењу са конвенционалним системима за распршивање који користе велике количине компримованог ваздуха, процес потенцијално може смањити прекомерно прскање и побољшати искоришћење материјала.

3. Погодно за сложене површине

Спин цоатинг најбоље функционише на релативно равним подлогама. Ултразвучни премаз у спреју пружа већу флексибилност премаза:

3Д структуре

Микроструктуриране подлоге

МЕМС компоненте

Не-равне површине

Структурисане облатне

Подлоге{0}}велике површине

Специјалне електронске компоненте

Спреј може да допре до области које може бити тешко равномерно премазати коришћењем конвенционалног центрифугирања.

4. Ниска-Брзина, контролисано прскање

Ултразвучна атомизација може да генерише мекан спреј који се може контролисати. Ово га чини погодним за апликације где би требало минимизирати прекомерни удар прскања или турбуленција.

Карактеристике прскања могу да се подесе променом ултразвучне фреквенције, брзине протока течности, растојања млазница-до-подлоге и брзине скенирања.

5. Флексибилна контрола дебљине премаза

На дебљину фоторезиста утиче више параметара процеса. Са ултразвучним системом за прскање, дебљина премаза се може подесити кроз факторе као што су:

Концентрација фоторезиста

Брзина протока течности

Ултразвучна фреквенција

Удаљеност прскања

Брзина скенирања млазница

Број пролаза премаза

Температура подлоге

Услови сушења

Ово омогућава да се процес наношења премаза оптимизује за различите формулације фоторезиста и захтеве подлоге.

Фотоотпорни премаз захтева прецизну контролу дебљине филма, униформности, потрошње материјала и покривености подлоге.Ултразвучна технологија наношења спрејануди флексибилан приступ за наношење фоторезиста, посебно када се ради са танким филмовима, сложеним структурама или подлогама које је тешко обрадити коришћењем конвенционалног центрифугирања.